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大功率微波芯片共晶焊接工藝技術

2021-12-04 08:43:26 知識庫 7565

轉自高速射頻百花潭  胡永芳 韓宗杰

 

文中采用自動化手段研究了大功率微波芯片共晶焊接技術,分別對影響微波芯片焊接焊透率的預置焊料、溫度曲線、氮氣保護氣氛、摩擦次數(shù)等影響因素開展了研究。通過在MoCu熱沉上預置焊料,采用優(yōu)化的共晶焊接溫度曲線,施加一定流量的氮氣保護,采用合適的共晶焊接摩擦次數(shù),最終獲得了具有良好焊透率的大功率微波芯片共晶焊接模塊。焊接位置精度能夠控制在 (25 ± 5) μm 范圍內(nèi)。文中還完成了焊后大功率微波芯片模塊的熱循環(huán)試驗,進行了微波芯片的剪切力測試。試驗結果顯示共晶焊接焊點剪切力滿足 GJB 548B—2005 的要求,表明采用優(yōu)化的工藝參數(shù)獲得的大功率微波芯片共晶焊接模塊具有很高的可靠性。

 

大功率 GaAs 微波器件因其優(yōu)越的性能而在相控陣雷達、微波通信系統(tǒng)等領域得到廣泛應用。大功率GaAs 微波芯片體積小,重量輕,具有優(yōu)良的高頻特性及高可靠性,已成為有源固態(tài)相控陣雷達 T/R 組件的關鍵器件 。

微波電路通常頻率較高,因此芯片的接地狀況影響著電路串擾和插入損耗,同時也帶來了附加電容與振蕩。微波組件發(fā)射部分的大功率微波芯片的 GaAs基體材料導熱性能差,因此大功率微波芯片與基體(基板)的連接必須要有良好的微波接地能力(低歐姆接觸)和良好的散熱能力,選用合金焊料進行共晶焊接是國內(nèi)外一致采用的芯片貼裝方式 。在大功率微波芯片共晶焊接效果評價中,焊透率(被釬接面積/需焊接面積)直接反映了接地效果和散熱能力,是整個焊接技術的重要指標。

本研究采用自動化手段實現(xiàn)大功率微波芯片高可靠共晶焊接,對影響大功率微波芯片焊接焊透率的溫度曲線、焊片尺寸、氮氣保護氣氛、摩擦次數(shù)等影響因素分別進行了研究,以期獲得大功率微波芯片共晶焊接良好的焊透率。

 

01

試驗


試驗原理

選用 Au80Sn20 焊料進行共晶焊接,Au-Sn 二元合金相圖如圖 1 所示。共晶熔點為 280? C,釬焊溫度為 300? C~ 310? C,比共晶熔點高出 20? C~ 30? C。共晶成分為w( Au ) = 80 %,w( Sn ) = 20 %,共晶組織由密排六方晶格的 ζ 相和六方晶格的 δ 相金屬間化合物組成,其共晶反應方程式為:

 

 

圖 1 Au-Sn 合金相圖


1.2試驗材料

試驗材料包括:

1)GaAs微波芯片,厚 0.08 mm;

2)模擬匹配陶瓷片為 Al 2 O 3 ,厚 0.5 mm,待焊接面鍍金;

3)熱沉為Mo70Cu30合金,厚 0.4 mm。

 

1.3試驗方法

依據(jù)金錫共晶焊接的原理,同時考慮到大功率微波芯片的散熱要求和熱膨脹系數(shù)匹配以及微波電路系統(tǒng)組裝焊接的兼容性(分級焊接),研究預置共晶焊料、焊接溫度曲線、氮氣保護氣氛以及摩擦次數(shù)等因素對微波芯片共晶焊接的影響,以期獲得 90 % 以上的芯片焊透率,滿足產(chǎn)品研制生產(chǎn)的需求。最后,選取共晶焊接焊透率好的大功率微波芯片進行熱循環(huán)試驗,對不同循環(huán)次數(shù)下的芯片進行剪切力測試,分析不同循環(huán)次數(shù)下的芯片剪切力的變化規(guī)律。

 

02

試驗結果與分析

 

2.1預置AuSn共晶焊料層

共晶焊接過程中,AuSn 焊料的用量對大功率微波芯片的焊透率和焊料流淌有直接的影響。采用常規(guī)的熔鑄–軋制方法制備的 AuSn 預成型焊片厚度通常大于 15 μm,在大功率微波芯片散熱通路中熱阻較大,易發(fā)生熱量積累而導致芯片過熱乃至失效。采用分層電鍍技術在 MoCu 熱沉上制作了 5 μm 厚的金錫共晶焊料層(圖 2),優(yōu)化確定 MoCu 熱沉上的Ni-Au-Sn 膜層結構,考察了金層、錫層的膜厚對金錫合金的影響。試驗表明:金層和錫層的厚度直接決定了金錫合金的含量,金層、錫層在合適的厚度下能得到共晶點的金錫合金;金含量偏高時,合金熔化溫度明顯變高,制備的合金不具有實用價值;錫含量偏高時,合金熔化溫度變化較小。

圖 2 預置AuSn共晶焊料層的微觀形貌

 

通過試驗研究了熱處理工藝對預置 AuSn 焊料合金的影響。結果表明熱處理溫度在 350? C 時可達到較好的合金化效果。對金錫共晶薄膜的性能做了評估測試。結果表明,在 MoCu 熱沉上制備的金錫共晶薄膜的成分可控制在 w( Au ) = (80 ± 1) %,w( Sn ) = (20 ± 1) %,薄膜可焊性良好,滿足產(chǎn)品AuSn 共晶焊接的需求。

 

2.2焊接溫度曲線設計

Au80Sn20 焊料的熔點為 280? C,焊接時溫度范圍一般為 300? C~ 310?C,以保證焊料具有較好的可焊性。大功率微波芯片對溫度敏感,一般焊接溫度不能超過 310? C,焊接時間不能超過 30s,否則會導致芯片性能下降。因此,焊接的溫度曲線設計非常重要。自動共晶焊接設備配置了可編程脈沖加熱臺,可以對溫度曲線進行精確控制,從而大大提高焊接的可靠性??删幊堂}沖加熱臺主要通過升溫速率、最高溫度和持續(xù)時間來編制溫度程序。試驗選取了多種參數(shù)進行組合,得到不同的溫度曲線,通過焊接過程中的焊料溢出、焊透率、芯片破裂等結果對焊接曲線進行評價,最終確定最適合大功率微波芯片焊接的溫度曲線的參數(shù):升溫速率 10? C / s,最高溫度 310 ? C,持續(xù)時間 7 s。

 

2.3氮氣氣氛保護的影響

在大功率微波芯片的焊接過程中進行局部氮氣氣氛保護,如圖 3 所示。一個半密封氮氣保護罩扣在脈沖加熱臺上方,充入氮氣將空氣排除以降低環(huán)境氧氣含量。

 

圖 3 氮氣保護罩

設備的氮氣流量在 0 ~ 20 L / min 范圍內(nèi)可控。氮氣流量為 0 時,焊接過程沒有保護,金錫焊料容易形成氧化物殘渣,影響焊接質(zhì)量甚至有可能影響產(chǎn)

品可靠性,如圖 4 所示。當?shù)獨饬髁刻嵘?5 L / min以上時,半密封罩內(nèi)能夠排除氧氣,保證共晶焊接在無氧氣氛下完成,此時得到的金錫焊點明亮而有光澤、無氧化。氮氣流量繼續(xù)提升,到 10 L / min 以上時,氮氣流速過大導致從加熱臺帶走的熱量過多,焊接溫度開始出現(xiàn)不穩(wěn)定現(xiàn)象。綜上所述,設置氮氣流量 5 L / min 即可保證排除氧氣以提高焊接質(zhì)量,同時可最大程度地節(jié)約成本,降低焊接熱量損耗。

圖 4 金錫氧化物殘渣

2.4摩擦次數(shù)的影響

在大功率微波芯片自動共晶焊接時會有一個摩擦過程,如圖 5 所示。摩擦過程有利于金錫焊料表面的氧化物破除,有利于焊料在芯片和熱沉之間鋪展,同時排除共晶焊接面的氣體,從而提高焊透率。

圖 5 共晶焊接中的摩擦


大功率微波芯片焊接過程中,在 X 和 Y 方向均可施加摩擦過程。本試驗中設定 X 和 Y 方向摩擦交替進行,兩方向合計摩擦次數(shù)與焊透率的關系曲線見圖6。

試驗結果表明:當摩擦次數(shù)達到 30 次時,焊透率可以保證在 90 % 以上,滿足功放芯片的散熱要求;摩擦次數(shù)繼續(xù)增加,焊透率提升比例有限。

 

圖 6 摩擦次數(shù)與焊透率的關系曲線

使用上述試驗確定的優(yōu)化參數(shù)在熱沉上完成大功率微波芯片、兩個陶瓷片和兩個連排電容的焊接,如圖 7 所示。各個器件之間的距離經(jīng)過測量,位置精度能夠控制在 (25 ± 5) μm 范圍內(nèi),焊透率能夠達到90 % 以上,完全能夠滿足產(chǎn)品高精度高焊透率的組裝要求。

圖 7 功放模塊高精度焊接


2.5環(huán)境試驗

根據(jù)軍用標準 GJB 548B—2005 的相關要求,對焊后大功率微波芯片模塊進行 ?55? C~ +125? C熱循環(huán)試驗,然后每隔 100 次熱循環(huán)進行微波芯片剪切力測試,試驗結果如圖8所示。

圖 8 大功率微波芯片焊后剪切力隨循環(huán)次數(shù)的變化

由圖 8 可見,經(jīng)過 ?55? C~ +125? C 多次熱循環(huán)試驗后,微波芯片的剪切力先有所增大后稍微減小。分析認為,高溫時金錫層能夠進一步相互擴散,形成了更均勻的共晶金屬化層;隨著循環(huán)次數(shù)的增加( 300 次后),焊接層內(nèi)的細小空洞逐漸擴大,導致剪切力稍微減小,但仍能滿足 GJB 548B—2005 的要求,且焊后剪切力遠大于 GaAs 芯片自身的強度。這充分說明大功率芯片在優(yōu)化的工藝參數(shù)下采用 AuSn焊料焊接具有很高的可靠性。


03

結束語

本文研究了大功率微波芯片共晶焊接技術,分別對影響微波芯片焊接焊透率的預置焊料、溫度曲線、氮氣保護氣氛、摩擦次數(shù)等影響因素進行研究,得到以下結論:

1)采用分層電鍍技術在 MoCu 熱沉上制作了 5 μm 厚的金錫共晶焊料層,可焊性良好,滿足共晶焊接的需求。

2)適合大功率微波芯片焊接的溫度曲線的參數(shù)為升溫速率 10? C / s,最高溫度 310 ? C,持續(xù)時間 7 s。

3)設置氮氣流量 5 L / min,能夠保證共晶焊接在無氧氣氛下完成,此時得到的金錫焊點具有明亮的金屬光澤。

4)摩擦次數(shù)達到 30 次時,焊透率能夠達到 90 % 以上,焊接位置精度能夠控制在(25 ± 5) μm 范圍內(nèi),滿足產(chǎn)品高精度高焊透率的組裝要求。

5)焊后大功率微波芯片模塊的熱循環(huán)試驗結果表明,采用優(yōu)化的工藝參數(shù)獲得的大功率微波芯片共晶焊接模塊具有較好的可靠性。

 


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